GB/T 32495-2016 表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法

标准详情:

GB/T 32495-2016

国家标准推荐性
  • 中文名称:表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法
  • CCS分类:G04
    ICS分类:71.040.40
  • 发布日期:2016-02-24
    实施日期:2017-01-01
  • 代替标准:
  • 技术归口:全国微束分析标准化技术委员会
    发布部门:国家标准化管理委员会
  • 标准分类:化工技术分析化学化学分析

内容简介

国家标准《表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法》由TC38(全国微束分析标准化技术委员会)归口,TC38SC2(全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
本标准中,详细规定了用扇形磁场或四极杆式二次离子质谱仪对硅中砷进行深度剖析的方法,以及用触针式轮廓仪或光学干涉仪深度定标的方法。本标准适用于砷原子浓度范围从1×1016atoms/cm3 到2.5×1021atoms/cm3的单晶硅、多晶硅、非晶硅样品,坑深在50nm及以上。

起草单位

中国电子科技集团公司第四十六研究所、

起草人

马农农、陈潇、何友琴、王东雪、

相近标准

GB/T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法
GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法
SJ/T 11493-2015 硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法
20213227-T-469 表面化学分析 二次离子质谱 静态二次离子质谱相对强度标的重复性和一致性
SJ/T 11498-2015 重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法
GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
GB/T 40129-2021 表面化学分析 二次离子质谱 飞行时间二次离子质谱仪质量标校准
GB/T 24575-2009 硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法
GB/T 24580-2009 重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法
YS/T 34.1-2011 高纯砷化学分析方法 电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)测定高纯砷中杂质含量

* 特别声明:资源收集自网络或用户上传,版权归原作者所有,如侵犯您的权益,请联系我们处理。

「在线纠错」

「相关推荐」