GB/T 44791-2024 集成电路三维封装 带凸点圆片减薄工艺过程和评价要求

标准详情:

GB/T 44791-2024

国家标准推荐性
  • 中文名称:集成电路三维封装 带凸点圆片减薄工艺过程和评价要求
  • CCS分类:L55
    ICS分类:31.200
  • 发布日期:2024-10-26
    实施日期:2025-05-01
  • 代替标准:
  • 技术归口:全国集成电路标准化技术委员会
    发布部门:工业和信息化部(电子)
  • 标准分类:电子学集成电路、微电子学

内容简介

国家标准《集成电路三维封装 带凸点圆片减薄工艺过程和评价要求》由TC599(全国集成电路标准化技术委员会)归口,主管部门为工业和信息化部(电子)。
本文件规定了12in及以下尺寸集成电路三维封装带凸点圆片的减薄工艺(以下简称减薄工艺)过程和评价要求。本文件适用于12in及以下尺寸需减薄的带凸点圆片。

起草单位

中国电子科技集团公司第五十八研究所、神州龙芯智能科技有限公司、

起草人

袁世伟、 王波、 黄海林、 肖隆腾、 肖汉武、王燕婷、陈明敏、

相近标准

GB/T 44796-2024 集成电路三维封装 带凸点圆片划片工艺过程和评价要求
GB/T 44775-2024 集成电路三维封装 芯片叠层工艺过程和评价要求
20254927-Z-469 微机电系统(MEMS)技术 芯片封装凸点高度测量方法 光学三角法
GB/Z 43510-2023 集成电路TSV三维封装可靠性试验方法指南
20233861-T-339 半导体集成电路封装术语
YD/T 4269-2023 IP网络带内操作、管理和维护(IOAM)数据内容和封装方法
20231018-T-469 集成电路封装用球形氧化铝微粉
20192066-T-339 集成电路晶圆可靠性评价要求
GB/T 43538-2023 集成电路金属封装外壳质量技术要求
YS/T 1644-2023 集成电路封装用镍阳极

* 特别声明:资源收集自网络或用户上传,版权归原作者所有,如侵犯您的权益,请联系我们处理。

「在线纠错」

「相关推荐」