GB/T 44928-2024 微电子学微光刻技术术语

标准详情：

GB/T 44928-2024

国家标准推荐性

中文名称：微电子学微光刻技术术语
CCS分类：L90
ICS分类：31.030
发布日期：2024-12-31
实施日期：2024-12-31
代替标准：
技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
发布部门：国家标准委
标准分类：电子学电子技术专用材料

内容简介

国家标准《微电子学微光刻技术术语》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC4（全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分会）执行，主管部门为国家标准委。
本文件界定了微电子学微光刻技术有关的微电子光刻技术，先进光刻技术，微光刻图形化和图形数据处理技术，微光刻感光材料、铬板与基板材料，光掩模技术，光刻工艺（曝光、刻蚀与微纳米加工）技术，电子束掩模制造与直写技术，光刻及掩模质量参数测量和评定，掩模制造设备和微光刻设备等术语和定义。本文件适用于微电子学微光刻技术领域的教学、科研、生产、应用、贸易和技术交流。

起草单位

中国科学院微电子研究所、

起草人

陈宝钦、王香、李新涛、冯伯儒、薛彩荣、李和委、王力玉、薛丽君、郝美玲、

相近标准

SJ/T 10584-1994 微电子学光掩蔽技术术语
20242209-T-606 高分辨率干膜光刻胶
20240186-T-604 光纤传感技术术语
GB/T 34177-2017 光刻用石英玻璃晶圆
JB/T 14418-2023 内燃机激光刻线气缸套技术规范
GB/T 45826-2025 光刻用掺钛石英玻璃
SJ/T 10668—2023 电子组装技术术语
SL 56-2005 农村水利技术术语
SL 56-2013 农村水利技术术语
JB/T 7250-1994 干燥技术术语

* 特别声明：资源收集自网络或用户上传，版权归原作者所有，如侵犯您的权益，请联系我们处理。

本地下载

纠错